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Boîte de 5 tissus de polissage LDR autocollants Ø 200 mm
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LDR 抛光布,带背胶,Φ200 毫米

Ref. 16223
5片/包装 适用于电子,碳纤维,半导体的抛光
Boîte de 5 tissus de polissage LDR autocollants Ø 250 mm
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LDR 抛光布,带背胶,Φ250 毫米

Ref. 16273
5片/包装 适用于电子,碳纤维,半导体的抛光
Boîte de 5 tissus de polissage LDR autocollants Ø 300 mm
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LDR 抛光布,带背胶,Φ300 毫米

Ref. 16323
5片/包装 适用于电子,碳纤维,半导体的抛光
Boîte de 5 tissus de polissage LDR autocollants Ø 400 mm
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LDR 抛光布,带背胶,Φ400 毫米

Ref. 16423
5片/包装 适用于电子,碳纤维,半导体的抛光
手动
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LE CUBE

Ref. 66250
LE CUBE是一台简便,有效,经济的手动抛光机。适合实验室、学校或研究中心。 工作盘尺寸:Φ200和250 毫米 LE CUBE配备变频器,高扭矩电机可顺时针或逆时针转动 两种转速可调:150-300 转/分钟 可拆卸的底盘,清洗简便 可搭配所有抛光表面(背胶,无背胶,磁性,PRESI Reflex)
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MECAPLAN 350 立式预磨机

Ref. 54200
MECAPLAN 350自动预磨机,适用于包括大面积和高硬度材料等各类样品的自动预磨,快速磨平及去除,落地式设计,可定量控制磨削量,可适配多种样品夹具,可批量处理样品。
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MECATECH 250 DPC 自动双盘研磨抛光机

Ref. 67930
MECATECH 250 DPC 是一台功能强大,耐用,可靠的双盘双电机自动研磨抛光机,适用于包括大面积和高硬度材料等各类样品的自动化研磨抛光。内置制备方法数据库,可保存多达100种不同材料制备方法。满足对制样结果一致性和可重现性的要求。 底盘尺寸:Φ200-250 毫米 *2 底盘转速:20-700 转/分钟 工作头转速:20-150 转/分钟 工作头转向:顺时针或逆时针 人性化设计,操作简便 1)分级管理软件功能,通过密码保护使实验室主管对制样工艺参数实现统一管理,以保证各类材料制备结果的一致性和重现性 2)7英寸宽大液晶LCD触摸屏装置于设备前端。方便设置所有参数 3)自动给液系统,以全面排除人为因素干扰,提高制备结果的一致性和可重现性,并降低样品制备成本 满足更多实验室或生产需求 1)研发模式与程序模式可供选择: A 研发模式 — 可对所有制备参数调整及设定。适用于教育、研发等具有材料多样性的使用环境 B 程序模式 — 按照数据库预先存储的参数进行制备。适用于生产、质量控制等固定材料使用环境 2)高分子复合材料坚固外壳,保证了设备的耐用性和稳定性 清洁无需太多步骤,省时省力 1)底盘结构:带倾斜角度底盘,方便液体流出;抬高主轴轴承位置,防止液体流入 2)可移除式高分子材料承托碗,防污防锈,易于清洗,并方便维修/保养 3)磨盘甩干功能,步骤结束后甩干砂纸/磨盘/抛光布,方便储存
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MECATECH 250 SPC 自动研磨抛光机

Ref. 67920
MECATECH 250 SPC 是一台功能强大,耐用,可靠的自动研磨抛光机,适用于包括大面积和高硬度材料等各类样品的自动化研磨抛光。内置制备方法数据库,可保存多达100种不同材料制备方法。满足对制样结果一致性和可重现性的要求。 底盘尺寸:Φ200-250 毫米 底盘转速:20-700 转/分钟 工作头转速:20-150 转/分钟 工作头转向:顺时针或逆时针 人性化设计,操作简便 1)分级管理软件功能,通过密码保护使实验室主管对制样工艺参数实现统一管理,以保证各类材料制备结果的一致性和重现性 2)7英寸宽大液晶LCD触摸屏装置于设备前端。方便设置所有参数 3)自动给液系统,以全面排除人为因素干扰,提高制备结果的一致性和可重现性,并降低样品制备成本 满足更多实验室或生产需求 1)研发模式与程序模式可供选择: A 研发模式 — 可对所有制备参数调整及设定。适用于教育、研发等具有材料多样性的使用环境 B 程序模式 — 按照数据库预先存储的参数进行制备。适用于生产、质量控制等固定材料使用环境 2)高分子复合材料坚固外壳,保证了设备的耐用性和稳定性 清洁无需太多步骤,省时省力 1)底盘结构:带倾斜角度底盘,方便液体流出;抬高主轴轴承位置,防止液体流入 2)可移除式高分子材料承托碗,防污防锈,易于清洗,并方便维修/保养 3)磨盘甩干功能,步骤结束后甩干砂纸/磨盘/抛光布,方便储存
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MECATECH 250 SPI 自动研磨抛光机

Ref. 67910
MECATECH 250 SPI 是一台功能强大,耐用,可靠的自动研磨抛光机,适用于包括大面积和高硬度材料等各类样品的自动化研磨抛光。内置制备方法数据库,可保存多达100种不同材料制备方法。满足对制样结果一致性和可重现性的要求。 底盘尺寸:Φ200-250 毫米 底盘转速:20-700 转/分钟 工作头转速:20-150 转/分钟 工作头转向:顺时针或逆时针 人性化设计,操作简便 1)分级管理软件功能,通过密码保护使实验室主管对制样工艺参数实现统一管理,以保证各类材料制备结果的一致性和重现性 2)7英寸宽大液晶LCD触摸屏装置于设备前端。方便设置所有参数 3)自动给液系统,以全面排除人为因素干扰,提高制备结果的一致性和可重现性,并降低样品制备成本 满足更多实验室或生产需求 1)研发模式与程序模式可供选择: A 研发模式 — 可对所有制备参数调整及设定。适用于教育、研发等具有材料多样性的使用环境 B 程序模式 — 按照数据库预先存储的参数进行制备。适用于生产、质量控制等固定材料使用环境 2)高分子复合材料坚固外壳,保证了设备的耐用性和稳定性 清洁无需太多步骤,省时省力 1)底盘结构:带倾斜角度底盘,方便液体流出;抬高主轴轴承位置,防止液体流入 2)可移除式高分子材料承托碗,防污防锈,易于清洗,并方便维修/保养 3)磨盘甩干功能,步骤结束后甩干砂纸/磨盘/抛光布,方便储存